直流磁控溅射镀膜机-真空镀膜设备

磁控溅射镀膜设备

用高能粒子轰击固体表面,固体表面的原子、分子与入射的高能粒子交换动能后从固体表面飞溅出来的现象称为溅射。溅射出来的原子具有一定的能量,它们可以重新沉积凝聚在固体基片表面上形成薄膜,称为溅射镀膜。通常是利用气体放电产生气体电离其正离子在电场作用下高速轰击阴极靶材击出阴极靶材的原子或分子,飞向被镀基片表面沉积成薄膜。

鼎益真空科技：磁控溅射镀膜机

样品展示：

鼎益科技
公司可根据用户要求设计各种规格型号的真空镀膜机。
真空机组及电控系统也可根据用户要求进行设计配置。

鼎益提供国际领先水平的镀膜应用解决方案：提供设备、材料、加工、技术、项目配套等系统服务。

鼎益真空镀膜设备有：蒸发镀膜机、磁控溅射镀膜机 、磁控蒸发两用镀膜机 、多弧离子镀膜机、中频离子镀膜机 、AF镀膜机、超硬质涂层镀膜机、PVD镀膜线、PVD镀膜项目配套总成。

PVD工艺技术采用在真空条件下，通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜。

鼎益科技根据产品的特性匹配最佳的镀膜工艺方案。
鼎益真空镀膜机械设备在行业优势特点：专业、诚信、可靠。